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日立 FB-2000A FIB 培训索引

离子泵 1 (IP1) 和离子泵 2 (IP2)

含有离子枪的柱子上部保持较高的真空比样品室更能消除枪尖附近的污染物和氧化物。正常真空值为 3x10^-6IP1 和 1.5x10 的 Pa^-5IP2。

FIB 的 LMIS 是一根连接到镓储存器的钨针。钨尖端涂有熔化的 Ga，沉积 Ga⁺当引入足够的电势时，离子到达样品表面穿过尖端和阳极。

该镜头位于离子枪下方，有两种工作模式：M0 和 M1。 M0模式表示聚光透镜关闭，束电流降低。通常使用M0设置用于成像。 M1模式表示聚光镜头开启并使用用于铣削活动。

对准器/像散校正器既可以使离子束与光轴对准，又可以使离子束与光轴对准离子束形状的像散校正。

这些线圈具有静电特性，可以操纵离子束。

物镜将离子束集中并聚焦到样品表面。

样品室是真空下离子柱下方的封闭区域标本所在的位置。正常真空值为5x10^-2宾夕法尼亚州。该室封闭了样品台。

该视频提供了内部组件的虚拟、自上而下的游览 Hitachi FB-2000A 聚焦离子束 (FIB) 系统的真空柱。用户将鼠标滑过系统的各个部分以及标签和描述提供。

随着游览沿着内部离子柱向下移动，它突出显示了以下科学知识组件按顺序排列：

离子泵 1 (IP1) 和离子泵 2 (IP2)：这些泵位于塔的上部，可维持高真空环境（高于下样品室）以消除附近的污染物和氧化物离子枪尖端。
Ga+ 液态金属离子源 (LMIS)：位于最顶部，这是离子束源。它由一个连接到镓储存器的钨针。当施加电压时，熔化的尖端涂有镓沉积 Ga+ 离子以产生光束。
聚光镜头：向下移动，光束穿过聚光透镜。这个镜头决定了光束电流并以两种模式工作：M0模式（镜头关闭，用于低电流成像）和M1模式（镜头打开，用于高电流铣削）。
对准器和散光器：就在聚光透镜下方，该组件将聚焦离子束与柱的光轴并校正光束的形状以防止像散。
主导流板：此部分包含静电线圈，可精确操纵和引导离子束的路径。
物镜：在柱底部附近，物镜会聚并聚焦受控的离子束直接照射到样品表面。
标本室：游览在底部封闭的标本室结束。保持在标准之下真空，该区域容纳聚焦光束最终相互作用的样品台与目标材料进行成像或微加工。