NPGS（纳米图案生成系统）允许用户创建纳米图案 在一个标本上。一般来说，所使用的光束参数可以在手册的最后一页找到。 FIB 手册“光束模式”栏“M1”下，使用 100 µm 的孔径尺寸。变焦 设置为 566x。中心到中心值设置为 3.69 nm。
FIB 的校准取决于样本的密度。这个程序 专门用于波导的构造。标准线剂量介于 80 和 100，产生 500 到 600 nm 之间的深度。
1。关闭初始 NPGS 窗口并通过单击 NPGS 菜单重新打开程序 桌面上的快捷方式。如果您是该软件的第一个用户，则执行此操作 那天。
2。等待 40 秒进行校准。 FIB 每天仅校准一次。
3。单击右上角下拉栏中的 DesignCAD 文件。
4。单击 DesignCAD Express 并按任意键继续。
5。单击左上角的线条图标。
6。在屏幕上绘制水平图案。定义好后双击 线。
7。单击该行并按 Ctrl+I，将打开一个窗口以允许参数 在“矢量”窗口中设置。对于点 1，设置 X:O 和 Y:O。对于点 2，设置 X:10 Y：0。然后，您应该将行长度设置为 10。按 Enter 键保存参数， 并关闭“矢量”窗口。
8。要创建阵列，请单击屏幕顶部标有 NPGS 的下拉栏 > 制作数组。
将会出现十字线；单击该行左侧下方，然后单击右侧上方 使用十字线的线。
9。在出现的“NPGS：创建数组函数”窗口中，输入以下数据：
9.1。列数：1
9.2。列间距（如果有多个）
9.3。行数：600
9.4。 ROW间距：0.35μm（如果超过1个）
行和列的颜色可以更改，但请按两次 (N) 继续。改变 行和列的颜色定义了要成像的不同层，这是 通常不需要。
注意：您始终需要在屏幕中间设置图案。
10。单击屏幕顶部标有 NPGS > MaxMag > 'o' 的下拉栏 更改/设置数组的原点。
最大放大实用程序
MaxMag：移动原点后
11。单击屏幕顶部标有 NPGS > SetDump 的下拉栏。
在要设置点的阵列附近点击大约三次，或者直到 看到指针所在的位置出现一个蓝点。
设置转储点
12。单击屏幕顶部标有 NPGS > 保存的下拉栏。
为您的文件命名并将其保存到当前 NPGS 项目，类型为“DesignCADf”。在 这次，如果您愿意，可以选择关闭该程序。
13。右键单击“纳米图案生成系统”窗口中的文件。选择 “运行文件编辑器”选项。单击窗口左侧的“模式名称”。
参数将显示在右侧。用户应输入以下参数 用于创建如图所示的波导图案：
- 第 1 层：正常写入
- 原点偏移：0,0
- 放大倍数：566
- 中心距：3.69 nm
- 线距：3.69 nm
- 配置参数：1
- 测量的束流电流（从 FIB 读取）：522.0 pA
- 多次通过模式：禁用
- 线剂量：100 nC/cm
14。如果愿意，可以使用之前使用的相同名称再次将文件保存在“运行文件”中。 关闭“运行文件编辑器”窗口。
15。将“显示文件类型”更改为“运行文件”。
16。选择您的文件并单击窗口左下角附近的 DAC(+10,+10)。
17。按自定义命令下的“NPGS 模式”。
18。单击屏幕左上角附近的“处理运行文件”。
19。同时启动 FIB 和 NPGS。空格键将启动 NPGS 软件。
20。按 Esc 手动停止成像，或者如果一切正确，则等待 屏幕上的计时器开始计时。否则，当程序完成时，按 Esc 两次即可返回正常屏幕。
21。单击左栏中的 FIB 模式可在 Hitachi 显示器上查看您的模式。